CVD KAPLAMA HAKKINDA

CVD (Chemical Vapor Deposition) Kimyasal Buhar Biriktirme olarak adlandırılan tekniğimiz,  vakum altında ultra saf ortamda özel kimyasalların önce buharlaştırılıp reaktöre gönderilmesi ,sonrasında kaplanacak malzeme üzerinde yoğuşturularak malzemeye nüfüz etmesiyle ölü alan kalmaksızın eşit ve homojen bir şekilde kaplanması prensibine dayanan, Türkiye'de eşsiz ve öncü bir teknolojidir.

• CVD yöntemi çok sayıda film ya da kaplamanın yüksek saflıkta ve istenilen özelliklerde oluşturulmasına olanak verir

• Kaplanan filmin kimyasal yapı kontrol edilebilirliği açısından üstündür.

• Kuru buhar ortamında gerçekleştiği için çözücü kaynaklı çevresel sorunlardan ve maliyet artışlarından etkilenmez. 

• Kesikli ve sürekli prosesler için uygundur, endüstriye entegre edilebilir.

• Kaplama çok düşük ısı altında yapılır. (Kaplama esnasında malzeme yüzeyinde 30°- 35° sıcaklık görülür)

• Sadece 200-500 nm ( 0.2 - 0.5 mikron !) mertebesinde kaplama kalınlığında askeri seviye uygulamaları için bile üstün çevresel koruma sağlayan ultra ince, deliksiz, homojen bir kaplamadır.

• Oda sıcaklığında, çözeltisiz ve temassız olarak kaplanır, bu nedenle hassas, narin ve karmaşık geometrili yüzeylere bile rahatlıkla uygulanabilir.

• NANODRY® yüksek hızlı ve frekanslı uygulamalar için ideal elektriksel özelliklere sahiptir.

• NANODRY®, elektronik kartlarda ,klasik sprey kaplamaların aksine kaplamayı soymaya gerek kalmadan kolayca kart üzerinden parça çıkarmaya olanak sağlar. En yüksek standartlarda koruma sağlamak için gereken tek şey yeniden uygulamadır.

• Kaplanan malzemenin, ulaşılması güç en ince noktasına kadar ulaşır ve su iticilik görevini yerine getirir.

• NANODRY® kaplama kalınlığı uygulanan yüzeyin her yerinde büyük oranda aynıdır.